卡備份器E74-743164
- 型號(hào)卡備份器E74-743164
- 密度167 kg/m3
- 長(zhǎng)度79562 mm
光刻膠如同刻畫(huà)電路的顏料，卡備份器E74-743164它在顯影液中的運(yùn)動(dòng)，直接決定電路畫(huà)得準(zhǔn)不準(zhǔn)、好不好，進(jìn)而影響芯片良率。
卡備份器E74-743164光刻技術(shù)是推動(dòng)集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動(dòng)力之一。彭海琳表示，卡備份器E74-743164冷凍電子斷層掃描技術(shù)為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應(yīng)提供了強(qiáng)大工具。深入掌握液體中聚合物的結(jié)構(gòu)與微觀行為，卡備份器E74-743164可推動(dòng)先進(jìn)制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關(guān)鍵工藝的缺陷控制與良率提升。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維全景照片，卡備份器E74-743164一舉克服了傳統(tǒng)技術(shù)無(wú)法原位、三維、高分辨率觀測(cè)的三大痛點(diǎn)。顯影是光刻的核心步驟之一，卡備份器E74-743164通過(guò)顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。近日，卡備份器E74-743164北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過(guò)冷凍電子斷層掃描技術(shù)，卡備份器E74-743164首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，指導(dǎo)開(kāi)發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。為破解難題，卡備份器E74-743164研究團(tuán)隊(duì)首次將冷凍電子斷層掃描技術(shù)引入半導(dǎo)體領(lǐng)域。
